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vatvalve半導體65.3 控壓擺閥65340-JAAH 65.3 控壓擺閥的尺寸為 DN 100-350 mm (4“ - 14“)，采用鋁或硬質(zhì)陽(yáng)極氧化鋁制成，帶有 ISO-F 和 JIS 標準法蘭連接?？杉啥ㄖ品ㄌm，也可作為直接安裝選項。標準密封材料為氟橡膠，并且可根據要求使用其他材料?？刂破骺刹捎锰厥饪刂扑惴ǎㄗ赃m應、固定 PID、上游、軟抽）?？刂破魃系母鞣N標準端口可通過(guò)個(gè)人計算

vatvalve控壓擺閥65340-JAAF 65.3 控壓擺閥已經(jīng)安裝在數百個(gè)各種工藝條件下的要求苛刻的應用中，證明了其可靠性和性能。65.3控壓擺閥還是改造現有系統的理想之選。 65.3 控壓擺閥的尺寸為 DN 100-350 mm (4“ - 14“)，采用鋁或硬質(zhì)陽(yáng)極氧化鋁制成，帶有 ISO-F 和 JIS 標準法蘭連接?？杉啥ㄖ品ㄌm，也可作為直接安裝選項。標準密封材料為氟橡膠，并且可

vatvalve瑞士進(jìn)口65.3 控壓擺閥65340-JAAE 可優(yōu)化半導體與顯示器系統中的下游壓力控制和隔離 最大限度地提高生產(chǎn)率 65.3 控壓擺閥設定了下游壓力控制和隔離的新標準。該系列控壓擺閥專(zhuān)為半導體和顯示器生產(chǎn)系統而設計，可在較寬的流導范圍內提供可控性。65.3 控壓擺閥配備帶有集成位置控制的電機，可提供改進(jìn)功能。

vatvalve高真空控制閘閥半導體專(zhuān)用64240-UEAG 64.2 高真空控制閘閥采用 VATLOCK 技術(shù)，可提供可靠的密封，同時(shí)不會(huì )在閥板密封處產(chǎn)生任何摩擦。閥板可充當節流元件，改變閥門(mén)開(kāi)度的流導特性。設備上壓力控制器可計算所需的閥板位置以達到規定的設定點(diǎn)壓力。步進(jìn)電機進(jìn)行驅動(dòng)，同時(shí)編碼器監控閥板位置。這樣可確?？焖贉蚀_地控制過(guò)程壓力。位于關(guān)閉位置的專(zhuān)用 VATLOCK 鎖定機制能夠確保在

vatvalve高真空控制閘閥瑞士進(jìn)口64240-PEAG 適用于高循環(huán)真空控制和隔離 64.2 高真空控制閘閥設計用于在濺射或蝕刻工藝等高循環(huán)真空工藝中進(jìn)行可靠精確的控制和隔離。該系列滿(mǎn)足耐用性、模塊性和可維護性的標準要求，并且特別注重長(cháng)正常運行時(shí)間和低購置成本。

vatvalve高真空控制閘閥64240-CEHG 適用于高循環(huán)真空控制和隔離 高真空控制閘閥設計用于在濺射或蝕刻工藝等高循環(huán)真空工藝中進(jìn)行可靠精確的控制和隔離

vatvalve高真空角閥26420-KE01 角閥的關(guān)鍵性能指標是可靠性與可變性。26.4 高真空角閥系列兼具可靠性和可變性。

vatvalve超高真空閥閥門(mén)12136-JA03 真空和氣體流的高精度控制和隔離在半導體制造中是至關(guān)重要的。

vatvalve楔形高真空閘閥09134-KE14 采用楔形設計的高真空閘閥已經(jīng)安裝在數千個(gè)各種工藝條件下的要求苛刻的應用中，證明了其可靠性。特別是在次金圓廠(chǎng)應用中，它已經(jīng)成為真空泵隔離的標準解決方案。該閘閥擁有多種設計選項，可以輕易集成到任何應用中。

vatvalve采用楔形設計的高真空閘閥09134-KE08 由于楔形設計，此高真空閘閥具有自清潔功能 閥門(mén)可在壓差高達 1 bar 時(shí)開(kāi)啟 適用于廣泛應用的靈活配置選項